30 октября, 2012 
admin При действии ультрафиолетового излучения происходит фотохимическая деструкция полимеров, что особенно важно для оптически прозрачных клеевых соединений. Для предотвращения фотодеструкции в клеи вводят стабилизаторы или красители.
Замечено, что фотолиз (полиуретанов и полиэтилена) на поверхности раздела с твердым- телом происходит интенсивнее, чем в свободной пленке [23, 24].
При малых интегральных дозах ионизирующего излучения происходит структурирование ряда синтетических клеев, а при больших — деструкция. При дозах 10—50 Мрад происходит структурирование фенольных, полиэфирных, поливинилбути — ральных клеев и увеличение прочности. При дозах 150 Мрад и более происходит деструкция эпоксидных, фенолокаучуковых, полиамидофенольных клеев и соответственно ухудшение прочности.
Опубликовано в рубрике 